电子束蒸发沉积是一种高精度的薄膜制备技术，广泛应用于半导体、光学涂层和微电子领域。该技术利用电子束加热蒸发源材料，使其在真空环境中蒸发并沉积到基片表面，形成均匀、致密的薄膜层。与其他沉积方法相比，电子束蒸发沉积具有高纯度、高沉积速率和优异膜层附着力等优势，特别适用于制备高熔点金属和氧化物薄膜。
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